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什么要素影响集成电路用超纯水设备的运转

发表时间:2022-11-20 14:19:39来源:贝博米乐平台

  跟着电子职业的日益敏捷发展,集成电路的出产用水要求也越来越高。对集成电路的质量要求越高,则水质的要求相对来说也就越严厉。集成电路用超纯水设备是依据电子职业的特殊要求规划并出产的一款水处理设备,具有自动化程度高、运转安稳、质量有确保特色,用户能够依据自己实践的出产需求,调整设备的出水量。集成电路用超纯水设备广泛的应用在大型工业、电子范畴。

  EDI组件产水通道内填充有离子交换树脂,过高的浊度、污染指数会使通道阻塞,构成体系压差上升,产水量下降。

  假如EDI中进水的残存硬度太高,会导致浓缩水通道的膜外表结垢,浓水流量下降,产水电阻率下降;影响产水水质,严峻时会阻塞组件浓水和极水流道,导致组件因内部发热而破坏。

  进水中假如有机物含量过高,会构成树脂和挑选透过性膜的有机污染,导致体系运转电压上升,产水水质下降。一起也简单在浓缩水通道构成有机胶体,阻塞通道。

  Fe、Mn等金属离子会构成树脂的“中毒”。树脂的金属“中毒”会构成EDI出水水质的敏捷恶化,尤其是硅的去除率敏捷下降。别的变价属对离子交换树脂的氧化催化作用,会构成树脂的永久性损害。

  进水中CO2生成的HCO3-是弱电解质,简单穿透离子交换树脂层而构成产水水质下降。

  高的TEA将会下降EDI产水电阻率,或需求进步EDI运转电流,而过高的运转电流会导致体系电流增大,余氯浓度增大,对极膜寿数晦气。

  作业电流增大,产水水质不断变好。但假如在增至最高点后再添加电流,因为水电离发生的H+和OH-离子量过多,除用于再生树脂外,很多充裕离子充任载流离子导电,一起因为很多载流离子移动过程中发生堆集和阻塞,乃至发生反分散,成果使产水水质下降。

  在相同的操作电流范围下,跟着原水电导率的添加EDI对弱电解质的去除率减小,出水的电导率也添加。假如原水电导率低则离子的含量也低,而低浓度离子使得在淡室中树脂和膜的外表上构成的电动势梯度也大,导致水的解离程度增强,极限电流增大,发生的H+和OH-的数量较多,使填充在淡室中的阴、阳离子交换树脂的再生作用杰出。

  净得瑞超纯水设备体系首要选用全自动反渗透+电去离子(EDI)+抛光混床超纯水处理技能,前置预处理加反渗透处理,有用去除水中各种盐份及杂质,然后运用CEDI及抛光混床体系,进一步提高水质,使出水到达用水工艺要求。选用全自运操控,具有产水水质安稳、操作简洁、运转费用低、绿色环保、保护便利等长处。

  超纯水设备体系广泛应用这些职业:新能源职业(光伏、微电子、太阳能、新材料)、电子(集成电路、显像管、线路板、电脑元件、电容器等)、电力(核电、光电、火力发电等)、光学、半导体、单/多晶硅、外表处理、化工、电镀等相关职业。

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